半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
内容的背景
该工厂非常专业产量半导体设备用高纯氟化氢和六氟化钨,废污水氟渗透压极低且材质复杂的。改变操作方法目的不安全稳定,氟化物排卸总是超支。項目加盟2200万元投建专用操作设施管理,方案操作实力500吨/天。
废液有效成分及主要来源
污废水 重要来自于制作主设备清洁和废液洗滌:
氟阳离子密度:1500-3500mg/L
含浓盐酸根阴离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含微量分析钨、钼等彩石营养元素
净化处理方法过程
采取高质量浓度特性,采取"中合+层级积累+膜清理"流程:
化工化工废水处理池:的分类处理有差异 密度化工化工废水
中合反應池:分阶段中加药系统氢钝化钠和氢钝化钙,操控从而pH至7.5-8.
斜管沉淀物池反应迟钝池:添加PAC和PAM增加沉淀物功能
斜管沉淀物中池:更高效固液拆分
多材质过滤系统器:清掉狗狗细小科粒
反渗入机系统:进一步脱盐和除氟
污水干化浓缩提炼脱水怎么办器软件系统:离心法脱水怎么办器后污水干化土石方工程正规专业救治
高清监测操作系统操作系统:实时视频摄像头监控氟正离子有机废气浓度和pH值
终究视觉效果
补救系统的作业数据分析:
进水并且没有及时正确地处理氟正离子平衡溶度:2800mg/L
出液氟化合物有机废气浓度:3.2mg/L(均值)
氟彻底清除率:99.9%以下
水中水回用率:实现65%
软件会自动化机械限度高,达成生活污水进行处理利润降30%,年收购 氟化钙副产的约400吨。