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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制造出厂靠近豫东东南部,主耍分娩89英寸半导体材料晶圆,每日焦化废水释放量下跌约800吨。因此分娩流程中安全使用广泛盐酸开展晶圆蚀刻,造成焦化废池中氟化物酸度高至200-300mg/L,远超祖国释放条件(10mg/L以下的)。 焦化废水有效成分及渠道 废污水最主要是来自于这三个基本原则: 晶圆蚀刻制作工序 :含高氧浓度氟化物(HF)、硝酸钠及小量天价属 物理化学机械设备制造拋光(CMP)生产废水 :含nm级硅粒子、有机肥料络合剂 机械擦洗生活污水 :含异丙醇、高锰酸盐指数等充分物 正确处理工艺方法方法 采取"耐腐蚀发展+混疑发展+淬硬层滤过"三级视频操作设计: 1级治理 :添加氯化钙和氢被氧化钙,导致氟化钙积淀,氟化物消除率达85% 二次解决 :移除PAC(缩聚氯化铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),删去氢氧化铁态污染源物 三級清理 :使用多物料过滤清洁器和活性酶炭过滤,留水氟化物酸度安稳在8mg/L以上 要点机械设备主要包括:pH一键可以调节软件系统、斜管石雕文化污水浓缩池、板框板框压滤机(污水缺水)。 结果是的效果 内容启动五年期监测站数据资料表明: 氟化物平均值渗透压:7.2mg/L(不超发达规范) COD剔除率:92% 污泥干化含水量率:≤65% 年收售氟化钙副的产品约150吨,达到材料化运用

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